Berlin, 30 Juli 2026 - Nanoval und ALD Vacuum Technologies haben ihre Patentstreitigkeiten ein-
vernehmlich beigelegt. Die Parteien haben hierzu eine Vereinbarung geschlossen, die sämt-
liche zwischen ihnen anhängigen Patentstreitigkeiten beendet und jeweils entsprechende
technische Handlungsfreiheit (FTO) gewährleistet.
Die Vereinbarung schafft eine langfristige Grundlage für die weitere Geschäftstätigkeit bei-
der Unternehmen, durch die die Parteien ihre Ressourcen künftig verstärkt auf Innovation,
Produktentwicklung sowie die Betreuung ihrer Kunden konzentrieren können.
Mit der Beilegung der Streitigkeiten unterstreichen beide Unternehmen ihr Interesse an einer
effizienten und wirtschaftlich sinnvollen Lösung von Patentstreitigkeiten.
Berlin, 30th of July 2026 - Nanoval and ALD Vacuum Technologies have amicably resolved their
patent disputes. To this end, the parties have entered into an agreement that brings all pend-
ing patent disputes between them to an end and ensures that each party has the necessary
freedom to operate.
The agreement establishes a long-term framework for the continued business activities of
both companies with which the parties can focus their resources more strongly on innova-
tion, product development, and customer support going forward.
By resolving these disputes, both companies reaffirm their commitment to efficient and com-
mercially sensible solutions to patent conflicts.
